緊湊設計惰性還原性氣體小型氣體凈化器

緊湊設計惰性還原性氣體小型氣體凈化器

1. 凈化材料：內(nèi)置 UltraPure 級金屬吸氣劑 + 分子篩混合床，可去除 O?、H?O、CO、CO?、CH? 至 <1 ppb。
2. 適用氣體：Ar、N?、He、H?、Kr、Xe 等惰性或還原性氣體，壓力 0-0.8 MPa。
3. 流量范圍：0.1-10 L/min（GP）/ 0.5-50 L/min（GPF），壓降 <0.05 MPa。
4. 本體材質(zhì)：316L EP 管 + VCR 接頭，內(nèi)部電解拋光 Ra ≤0.25 μm，顆粒釋放 <0.01 pcs/cc @0.1 μm。
5. 溫度操作：常溫-400 ℃可選加熱型，升溫后吸氣容量提升 3 倍。
6. 緊湊設計：直徑 40 mm、長 120-250 mm，重量 0.3-0.8 kg，可直接串入氣瓶柜或設備前端。

1. 凈化材料：內(nèi)置 UltraPure 級金屬吸氣劑 + 分子篩混合床，可去除 O?、H?O、CO、CO?、CH? 至 <1 ppb。
2. 適用氣體：Ar、N?、He、H?、Kr、Xe 等惰性或還原性氣體，壓力 0-0.8 MPa。
3. 流量范圍：0.1-10 L/min（GP）/ 0.5-50 L/min（GPF），壓降 <0.05 MPa。
4. 本體材質(zhì)：316L EP 管 + VCR 接頭，內(nèi)部電解拋光 Ra ≤0.25 μm，顆粒釋放 <0.01 pcs/cc @0.1 μm。
5. 溫度操作：常溫-400 ℃可選加熱型，升溫后吸氣容量提升 3 倍。
6. 緊湊設計：直徑 40 mm、長 120-250 mm，重量 0.3-0.8 kg，可直接串入氣瓶柜或設備前端。

1. 凈化材料：內(nèi)置 UltraPure 級金屬吸氣劑 + 分子篩混合床，可去除 O?、H?O、CO、CO?、CH? 至 <1 ppb。
2. 適用氣體：Ar、N?、He、H?、Kr、Xe 等惰性或還原性氣體，壓力 0-0.8 MPa。
3. 流量范圍：0.1-10 L/min（GP）/ 0.5-50 L/min（GPF），壓降 <0.05 MPa。
4. 本體材質(zhì)：316L EP 管 + VCR 接頭，內(nèi)部電解拋光 Ra ≤0.25 μm，顆粒釋放 <0.01 pcs/cc @0.1 μm。
5. 溫度操作：常溫-400 ℃可選加熱型，升溫后吸氣容量提升 3 倍。
6. 緊湊設計：直徑 40 mm、長 120-250 mm，重量 0.3-0.8 kg，可直接串入氣瓶柜或設備前端。

1. 凈化材料：內(nèi)置 UltraPure 級金屬吸氣劑 + 分子篩混合床，可去除 O?、H?O、CO、CO?、CH? 至 <1 ppb。
2. 適用氣體：Ar、N?、He、H?、Kr、Xe 等惰性或還原性氣體，壓力 0-0.8 MPa。
3. 流量范圍：0.1-10 L/min（GP）/ 0.5-50 L/min（GPF），壓降 <0.05 MPa。
4. 本體材質(zhì)：316L EP 管 + VCR 接頭，內(nèi)部電解拋光 Ra ≤0.25 μm，顆粒釋放 <0.01 pcs/cc @0.1 μm。
5. 溫度操作：常溫-400 ℃可選加熱型，升溫后吸氣容量提升 3 倍。
6. 緊湊設計：直徑 40 mm、長 120-250 mm，重量 0.3-0.8 kg，可直接串入氣瓶柜或設備前端。