工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置

工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置

1. 檢測原理
   基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度。
2. 技術特性
• 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘。
• 多環境適配：支持氣態/液態臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能。
• 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業臭氧發生器出口監測。
3. 應用場景
   主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環境，需搭配動態校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現閉環控制。
4. 市場對比
   類似產品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高

1. 檢測原理
   基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度

   。
2. 技術特性
• 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘

  。
• 多環境適配：支持氣態/液態臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能

  。
• 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業臭氧發生器出口監測

  。
3. 應用場景
   主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環境，需搭配動態校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現閉環控制

   。
4. 市場對比
   類似產品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高