產(chǎn)品資料
非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì)
產(chǎn)品名稱: 非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì)
產(chǎn)品型號: Photrix
產(chǎn)品特點(diǎn): 非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì)等離子體反應(yīng)溫度 · 非接觸 · 真空 ≤1×10?? Pa · 0.01 °C 分辨率450-2000 °C · ±0.5 % · 5 ms 響應(yīng) · 重量 1.9 k
非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì) 的詳細(xì)介紹
非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì)
非接觸半導(dǎo)體裝置用離子體反應(yīng)溫度測量計(jì)
一、產(chǎn)品定位
- 半導(dǎo)體裝置專用：等離子體刻蝕、CVD、離子注入、ALD
- 等離子體反應(yīng)溫度：非接觸，真空 ≤1×10?? Pa，450-2000 °C
- Photrix：非接觸等離子體溫度，0.01 °C 分辨率，5 ms 響應(yīng)
二、核心技術(shù)參數(shù)（Photrix）
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 原理 | 非接觸等離子體溫度（Photrix 原理） |
| 溫度范圍 | 450 – 2000 °C（全范圍） |
| 分辨率 | 0.01 °C（0.01 °C 分辨率） |
| 精度 | ±0.5 %（450-2000 °C） |
| 響應(yīng)時(shí)間 | 5 ms（非接觸） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內(nèi)置窗） |
| 真空接口 | NW16（可轉(zhuǎn) NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 尺寸/重量 | 200×150×45 mm，1.9 kg |
| 壽命 | 5 年（傳感器） |
三、功能亮點(diǎn)
- 450-2000 °C 全范圍：非接觸等離子體溫度，全范圍精度 ±0.5 %
- 0.01 °C 超高分辨率：0.01 °C 分辨率，等離子體溫度微變實(shí)時(shí)捕捉
- 5 ms 高速響應(yīng)：非接觸，5 ms 高速響應(yīng)，適合快速溫度變化
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 1.9 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動，實(shí)驗(yàn)室即用
- 5 年壽命：Photrix 傳感器，5 年免維護(hù)
四、典型應(yīng)用系統(tǒng)
半導(dǎo)體等離子體刻蝕┌─ 等離子體腔體 ─┐│ │溫度← Photrix ← 真空饋通 NW16│ │└─ PLC/DCS ──────┘- 等離子體溫度 1000 °C，0.01 °C 分辨率，5 ms 響應(yīng)
- RS-485 實(shí)時(shí)輸出，PLC 閉環(huán)控制
五、實(shí)測數(shù)據(jù)（等離子體驗(yàn)證）
- 等離子體：Ar/O?，1000 °C，1×10?? Pa
- Photrix：
- 溫度 1000 °C（±0.5 %）
- 分辨率 0.01 °C（0.01 °C）
- 響應(yīng)時(shí)間 5 ms（非接觸）
一、產(chǎn)品定位
- 半導(dǎo)體裝置專用：等離子體刻蝕、CVD、離子注入、ALD
- 等離子體反應(yīng)溫度：非接觸，真空 ≤1×10?? Pa，450-2000 °C
- Photrix：非接觸等離子體溫度，0.01 °C 分辨率，5 ms 響應(yīng)
二、核心技術(shù)參數(shù)（Photrix）
| 項(xiàng)目 | 參數(shù) |
|---|---|
| 原理 | 非接觸等離子體溫度（Photrix 原理） |
| 溫度范圍 | 450 – 2000 °C（全范圍） |
| 分辨率 | 0.01 °C（0.01 °C 分辨率） |
| 精度 | ±0.5 %（450-2000 °C） |
| 響應(yīng)時(shí)間 | 5 ms（非接觸） |
| 真空度 | ≤ 1×10?? Pa（真空版） |
| 大氣版 | 可選（內(nèi)置窗） |
| 真空接口 | NW16（可轉(zhuǎn) NW25/NW40） |
| 電源 | DC 24 V 2 A（含 100-240 V 適配器） |
| 尺寸/重量 | 200×150×45 mm，1.9 kg |
| 壽命 | 5 年（傳感器） |
三、功能亮點(diǎn)
- 450-2000 °C 全范圍：非接觸等離子體溫度，全范圍精度 ±0.5 %
- 0.01 °C 超高分辨率：0.01 °C 分辨率，等離子體溫度微變實(shí)時(shí)捕捉
- 5 ms 高速響應(yīng)：非接觸，5 ms 高速響應(yīng)，適合快速溫度變化
- ≤ 1×10?? Pa 真空兼容：真空腔直接安裝，無泄漏
- 1.9 kg 超輕：A5 底面積，可手提移動，實(shí)驗(yàn)室即用
- 5 年壽命：Photrix 傳感器，5 年免維護(hù)
四、典型應(yīng)用系統(tǒng)
半導(dǎo)體等離子體刻蝕┌─ 等離子體腔體 ─┐│ │溫度← Photrix ← 真空饋通 NW16│ │└─ PLC/DCS ──────┘- 等離子體溫度 1000 °C，0.01 °C 分辨率，5 ms 響應(yīng)
- RS-485 實(shí)時(shí)輸出，PLC 閉環(huán)控制
五、實(shí)測數(shù)據(jù)（等離子體驗(yàn)證）
- 等離子體：Ar/O?，1000 °C，1×10?? Pa
- Photrix：
- 溫度 1000 °C（±0.5 %）
- 分辨率 0.01 °C（0.01 °C）
- 響應(yīng)時(shí)間 5 ms（非接觸）
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