磁控濺射設(shè)備的主要用途
磁控濺射設(shè)備的主要用途
電子束是PVD的一種，磁控濺射也一樣。電子束一般用于對鍍膜材料有高純度高標(biāo)準(zhǔn)要求的領(lǐng)域，而磁控濺射一般的應(yīng)用更日常一些，比如半導(dǎo)體、常見的絕緣體材料、一些手機殼，這下不再覺得磁控濺射遙遠了吧。而且磁控濺射的優(yōu)點也很明顯、很接地氣：設(shè)備簡單、易于操控、鍍膜面積大等等。
磁控濺射系統(tǒng)是利用靶材背面的強力磁鐵促進陰極表層電離，利用磁場使離子與靶材碰撞，噴射出金屬分子的原理。
黃金和鉑金等貴金屬主要用于電子顯微鏡應(yīng)用。我們還有一系列可以濺射其他金屬靶材的型號。
用于電子顯微鏡的濺射，主要顆粒尺寸的比較
Au：金
觀察區(qū)域：幾千到10,000倍
Au-Pd：金鈀
觀察區(qū)域：10,000到50,000倍
適合低倍觀察，對比度好。
Pt：鉑
觀察面積：50000～100000倍
Pt--Pd：鉑鈀
觀察面積：30000～50000倍
粒徑細，常用于高倍觀察。
W：鎢
觀察倍率：100,000倍以上
粒徑具有與鋨相當(dāng)?shù)募毝?，可以在比鉑更高的倍率范圍內(nèi)進行觀察。
那么，磁控濺射設(shè)備的主要用途有哪些呢？
1.被應(yīng)用于裝飾領(lǐng)域，被制成全反射及半透明膜，比如我們常用常換常買的手機殼，沒想到吧；
2.被應(yīng)用于機械加工行業(yè)中提高涂層產(chǎn)品的壽命壽命。因為濺射磁控鍍膜能夠有效提高表面硬度、韌性、耐磨抗損以及耐化學(xué)侵蝕、耐高溫，從而達到提高產(chǎn)品壽命的作用；
3.被應(yīng)用于微電子領(lǐng)域。在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機；
4.被應(yīng)用于在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池等方面的研究，發(fā)揮了非常重大且重要的作用；
5.被應(yīng)用于各種功能性薄膜的制作。比如具有反射、折射、透射作用的薄膜；具有吸收、偏光等作用的薄膜；
6.被應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域。比如被廣泛應(yīng)用于平板顯示器件的透明導(dǎo)電玻璃、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器的生產(chǎn)，都離不開磁控濺射技術(shù)。
相關(guān)產(chǎn)品介紹
| 設(shè)備 | 特征 | 目標(biāo)金屬 |
 | MSP-mini 超小型濺射設(shè)備 對于光學(xué)顯微鏡，這是適合制作有光澤的 Ag 薄膜以及 SEM 和臺式 SEM 預(yù)處理的裝置。 |    |
 | MSP-1S 是一款帶有內(nèi)置泵的緊湊型濺射系統(tǒng)。 也可用于濺射鉑靶，可用于高達約50,000倍的高倍率觀察。 |   |
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